BENZAAZAA BACHRA AFFANI RIMA2021-07-072021-07-072017-07-01http://10.10.1.6:4000/handle/123456789/831Dans ce travail, nous nous intéressons à l’étude des caractéristiques électrochimiques, morphologiques, structurales des films minces du Co,Cu et Ni obtenus par électrodéposition sur un substrat d ITO . L’analyse des courants transitoires par l’utilisation de modèle théorique de Scharifker-Hills indique que le mécanisme de nucléation Co,Cu et Ni suits une nucléation de type instantané suivie par une croissance tridimensionnelle (Volmer-Weber) limitée par la diffusion.). La morphologie de la surface des films variée avec le potentiel appliqué. La diffraction X indique que les films des éléments sont constitués de plusieurs phases : un mélange de Co et Ni fcc + hc et Cu cfc structures en fonction du potentiel appliqué.frElectrodéposition, Nucléation-Croissance, Morphologie, Structure DRX.Thesis