Abstract:
Dans ce travail, nous nous sommes intéressons à l’effet des solvants à différents potentiels sur
les caractéristiques électrochimiques, morphologiques, structurales des films minces d'alliage Co-Ni
électrodéposés sur un substrat de ITO à partir de bain chlorure. L’étude cinétique de dépôt par la
technique voltammétrique a permis d’optimiser les conditions d’électrodéposition de ces couches
minces. L’analyse des courants transitoires par l’utilisation du modèle théorique de Scharifker-Hills
indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée dans le bain qui
contient l’eau comme solvant, et de type progressive dans le bain de glycérol suivie par une
croissance tridimensionnelle (Volmer-Weber) limitée par la diffusion. Ces modes de nucléation ont
été influencés par la nature du solvant ajouté au bain de déposition et les potentiels appliqués. La
caractérisation ex-situ des échantillons a été déterminée par microscopie à force atomique (AFM),
diffraction de rayons X (DRX). La morphologie de la surface des films varie avec la nature du
solvant. La diffraction X indique que les dépôts sont constitués d’une phase d’une phase cubique a
face centré dans le glycérol et l’eau cfc.
