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dc.contributor.author |
SOFIA, BELMOUHOUB |
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dc.date.accessioned |
2021-06-09T13:41:51Z |
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dc.date.available |
2021-06-09T13:41:51Z |
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dc.date.issued |
2018-07-01 |
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dc.identifier.uri |
https://dspace.univ-bba.dz:443/xmlui/handle/123456789/650 |
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dc.description.abstract |
L’objectif de ce travail est d’étudier la caractérisation et l’application de l’électrode Cu2O/ITO
obtenus par voie électrochimique. Tout d’abord, nous avons étudié les mécanismes de l’électrodéposition du
Cu2O en utilisant les techniques de la voltamétrie cyclique et la chronoampérométrie. L’étude de la cinétique
de l’électrodéposition du Cu2O par la voltammétrie cyclique a montré que la réaction de formation des
nanostructures de Cu2O est régie par la diffusion associe à une réaction chimique. L’étude morphologique
par la microscopie à force atomique (AFM) à montré une distribution totale de dépôt sur la surface du
substrat avec une augmentation de la taille des grains lorsque le temps de déposition augmente. La
caractérisation structurelle par DRX à montré une structure cubique avec une orientation préférentielle
suivant la direction (111). En outre, la taille moyenne des cristallites diminue en augmentant le temps de
déposition. L’activité électro-catalytique de l'électrode Cu2O/ITO obtenue envers le glucose sur la surface de
l'électrode Cu2O/ITO par la voltamétrie cyclique (CV) à montré un pic anodique attribué à l'oxydation
glucose. La cinétique de la réaction d’oxydation du glucose sur l’électrode Cu2O/ITO est contrôlée par la
diffusion. Les performances analytiques de notre électrode relatives à la sensibilité et à la limite de détection
sont 2.32 mA/ (cm2.mM) et 0.0531mM, respectivement. |
en_US |
dc.language.iso |
fr |
en_US |
dc.publisher |
Faculté des Sciences et Technologies |
en_US |
dc.relation.ispartofseries |
;SM/M/CH/2018/13 |
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dc.subject |
Electrodéposition, Oxyde, Cu2O, ITO, DRX, AFM, Glucose. |
en_US |
dc.title |
Elaboration des couches d’oxyde de cuivre pour une application dans un capteur électrochimique |
en_US |
dc.type |
Thesis |
en_US |
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