Electrodéposition et caractérisation des couches minces d’oxyde cuivrique CuO

Abstract

(électrodéposition) pour l’élaboration de couches minces de CuO. L'électrodéposition est l’une des méthodes la plus intéressante pour la synthèse des couches minces d'oxyde semiconducteur. Ses principaux avantages sont la possibilité de déposer à basse température, faible coût et de donner des couches plus homogènes [8]. L’objectif principal de ce travail est d'obtenir des nanostructures d'oxyde de cuivrique (Cu2O) de type p par électrodéposition, et plus particulièrement l’étude de l’effet du traitement thermique sur les propriétés des nanostructures de Cu2O électrodéposées sur FTO. Ce travail est devisé en trois chapitres : Le premier chapitre est porté sur une revue bibliographique. Pour cela, nous avons présenté tout d'abord les oxydes transparents conducteurs (TCO) d'un point de vue général. Par la suite, nous focaliserons notre attention sur les oxydes de cuivre Cu2O et CuO en particulier sur ses propriétés, ses méthodes d’élaborations et ses applications dans divers domaines technologiques. Le second chapitre a pour but de décrire les différentes techniques expérimentales utilisées pour l’élaboration et la caractérisation des nanostructures de Cu2O et de CuO. Dans le troisième chapitre nous allons exposer et interpréter l’essentiel de nos résultats expérimentaux concernant l’élaboration des nanostructures de l’oxyde de cuivre Cu2O sur FTO et l’effet du traitement thermique sur leurs propriétés. Nous terminons ce travail par une conclusion générale qui résume les résultats obtenus dans ce travail