Dépôt Institutionnel de l'Université BBA

Effet de nucléation et de croissance des nanoparticules de cuivre sur une surface RuSi-n (100)

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dc.contributor.author ▪ Benferhat Naoual ▪ Laidoudi Khaoula
dc.date.accessioned 2023-09-06T08:10:40Z
dc.date.available 2023-09-06T08:10:40Z
dc.date.issued 2023-06-24
dc.identifier.uri https://dspace.univ-bba.dz:443/xmlui/handle/123456789/3737
dc.description.abstract Dans ce travail, nous nous sommes intéressés à l’effet des paramètres d’électrodéposition sur les caractéristiques électrochimiques, morphologiques et structurales de cuivre électrodéposé sur un substrat de Ru/Si (100) à partir d'un bain de sulfate (pH=4.8). L’étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique cyclique a permis d’optimiser les conditions d’électrodéposition de Cu. L’analyse des courants transitoires indique que le mécanisme de nucléation de Cu est de type instantané suivie par une croissance tridimensionnelle (3D) limitée par la diffusion. La caractérisation des échantillons a été déterminée par la microscopie à force atomique (AFM) et la diffraction de rayons X (DRX). Les images AFM-2D, montrent clairement une répartition globale de dépôt avec une forme granulaire des grains. Etude structural confirme que le dépôt de Cu cristallise dans la structure cubique à face centré (cfc). en_US
dc.language.iso fr en_US
dc.publisher faculté des sciences et de la technologie* univ bba en_US
dc.relation.ispartofseries ;SM/M/CH/2023/01
dc.subject AFM, Cu, Electrodéposition, Nucléation-croissance, Structure. en_US
dc.title Effet de nucléation et de croissance des nanoparticules de cuivre sur une surface RuSi-n (100) en_US
dc.type Thesis en_US


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