Effet des paramètres d’électrodéposition sur la morphologie et la structure des films minces de Co-Ni

Abstract

Dans ce travail, l’objectif recherché est de donner une étude sur l’effet des paramètres d’électrodéposition sur les caractéristiques électrochimiques, morphologiques et structurales des filmes minces d'alliage Co-Ni électrodéposés sur un substrat de l’acier XC48 à partir de bain sulfate. L’étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d’optimiser les conditions d’électrodéposition de ces couches minces. L’analyse des courants transitoires par l’utilisation de modèle théorique de Scharifker-Hills indique que le mécanisme de nucléation de l’alliage Co-Ni est de type instantané suivie par une croissance tridimensionnelle (Volmer-Weber) limitée par la diffusion. La caractérisation des échantillons a été déterminée par la microscopie à force atomique (AFM), la diffraction de rayons X (DRX)