Effet de la nature de solvant sur les propriétés d’électrodépôts de l’alliage Co-Ni

Abstract

Dans ce travail, nous nous sommes intéressons à l’effet des solvants à différents potentiels sur les caractéristiques électrochimiques, morphologiques, structurales des films minces d'alliage Co-Ni électrodéposés sur un substrat de ITO à partir de bain chlorure. L’étude cinétique de dépôt par la technique voltammétrique a permis d’optimiser les conditions d’électrodéposition de ces couches minces. L’analyse des courants transitoires par l’utilisation du modèle théorique de Scharifker-Hills indique que le mécanisme de nucléation suit une nucléation de type instantanée dans le bain qui contient l’eau comme solvant, et de type progressive dans le bain de glycérol suivie par une croissance tridimensionnelle (Volmer-Weber) limitée par la diffusion. Ces modes de nucléation ont été influencés par la nature du solvant ajouté au bain de déposition et les potentiels appliqués. La caractérisation ex-situ des échantillons a été déterminée par microscopie à force atomique (AFM), diffraction de rayons X (DRX). La morphologie de la surface des films varie avec la nature du solvant. La diffraction X indique que les dépôts sont constitués d’une phase d’une phase cubique a face centré dans le glycérol et l’eau cfc.